高周波超音波洗浄装置光進電気工業

ターゲット
半導体関連市場
利用シーン
シリコンウエハー表面の洗浄
フォトマスク表面の洗浄
製品の特徴
メガソニック洗浄
400ｋHZ～9MHzの高周波超音波による制御されたキャビテーションで発生した泡が微細なパーティクルを剥離する事で洗浄します。

サイズ・容量	水中トランスデューサー式の出力周波数は、400kHz、600 kHz、1MHz、2MHzから選択ノズル式の出力周波数は600kHz、1MHz、2MHz、3MHz、4MHz、5MHz、9MHzから選択
特記事項	新製品のダブルノズル式は、組み合わせ可能な2つの周波数を2つのメディアジェットを通して基板表面の特定箇所に同時に正確に噴射します。
カタログPDF	SONOSYS製品

光進電気工業

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